LFA 457 MicroFlash®
Công nghệ tiên tiến nghiên cứu và kiểm tra các đặc tính nhiệt lý
LFA 457 MicroFlash® của NETZSCH tuân thủ công nghệ mới nhất dành cho hệ thống laser flash hiện đại. Thiết bị đặt trên bàn cho phép đo từ -125 ° C đến 1100 ° C bằng cách sử dụng hai lò nung khác nhau mà người dùng có thể chuyển đổi.
LFA 457 MicroFlash® là hệ thống LFA linh động và cập nhật mới nhất cho nghiên cứu và phát triển và cho tất cả các ứng dụng liên quan đến mô tả đặc trưng vật liệu tiêu chuẩn hoặc hiệu năng cao trong sản xuất ô tô, hàng không, vũ trụ và công nghệ năng lượng.
LFA 457 MicroFlash® của NETZSCH tuân thủ công nghệ mới nhất dành cho hệ thống laser flash hiện đại. Thiết bị đặt trên bàn cho phép đo từ -125 ° C đến 1100 ° C bằng cách sử dụng hai lò nung khác nhau mà người dùng có thể chuyển đổi.
LFA 457 MicroFlash® là hệ thống LFA linh động và cập nhật mới nhất cho nghiên cứu và phát triển và cho tất cả các ứng dụng liên quan đến mô tả đặc trưng vật liệu tiêu chuẩn hoặc hiệu năng cao trong sản xuất ô tô, hàng không, vũ trụ và công nghệ năng lượng.
Để biết thêm thông tin, vui lòng truy cập:
Thông số kỹ thuật
Thông số kỹ thuật
| Phạm vi nhiệt độ | -125°C đến 500°C, RT đến 1100°C, (2 kiểu lò nung có thể chuyển đổi) |
| Tốc độ gia nhiệt và làm lạnh | 0.01 K/min đến 50 K/min |
| Năng lượng xung laser | lên đến 18 J/pulse, (công suất có thể điều chỉnh) |
| Phạm vi đo | 0.01 mm2/s đến 1000 mm2/s (Độ khuếch tán nhiệt) |
| Phạm vi đo | 0.1 W/mK đến 2000 W/mK (Độ dẫn nhiệt) |
| Kích thước mẫu | đường kính từ 10 mm đến 25.4 mm (cũng có thể là dạng hình vuông 8×8 mm và 10×10 mm), độ dày 0.1 mm đến 6 mm |
| Bộ phận giữ mẫu Bộ giữ mẫu kim loại lỏng Bộ giữ mẫu chất lỏng |
SiC, graphite sapphire platinum |
| Môi trường | trơ, oxy hóa, khử, tĩnh, động |
| Thiết kế kín chân không lên đến 10-2 mbar (1 Pa) | |